类型及规格
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产品概述：在苏打或者石英玻璃为透明基板上镀一层铬，经过激光光刻曝光技术，最终蚀刻残留铬部分得到所需的微电路图案
光掩膜版具有精度高、抗划伤能力强和使用寿命长等优点而被广泛应用于半导体行业中，普佳从设计到生产再到售后有完整的服务体系，能为客户提供多种尺寸、不同精度级别的苏打/石英玻璃掩膜版，最小图形可做到0.5um，制作精度为±0.05um
